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chemical vapor deposition-翻译为中文-例句英语 Reverso

点点文档为您提供的皮筋拉力表相关的文档,视频,软件,点点文档提供稳定的全网文档检索工具,衷心希望能帮到您的工作 (20)气相沉积法包括物理气相沉积法pvd与化学气相沉积法cvd。 (21)液相沉淀法包括直接沉淀法、共沉淀法、均匀沉淀法与水解法。 (22)固态反应一般包括相界面上得反应与物质迁移两个过程,反应物浓度对反应得影响很小,均相反应动力学不适用。 Optics 是在优酷播出的纪录片高清视频,于2019-07-18 13:23:47上线。视频内容简介:Optics 微波等离子体化学气相沉积法制备图形化碳纳米管阵列 . 2020-03-10. 微波等离子体化学气相沉积法制备图形化碳纳米管阵列,赵约瑟,曾葆青,应用微波等离子体化学气相沉积法(mpcvd)在含有图案化的ni催化剂薄膜上选择性的沉积了定向有序碳纳米管阵列。甲烷 淘宝当前有174件薄膜沉积相关的商品在售。 在这些薄膜沉积的薄膜类型有地膜、棚膜、可降解环保膜、无滴膜和有色膜等多种,在薄膜沉积的薄膜特性有多功能、保温、除草、反光和灌浆等多种,在薄膜沉积的保鲜膜类别有减肥使用、普通冰箱保鲜、微波炉专用和冷冻专用等多种,在薄膜沉积的 All Video to VCD SVCD DVD Converter converts AVI, DivX, XviD, MPEG, DAT, RM, and WMV to DVD, SVCD, and VCD format files that can be played on your VCD/DVD player.

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论文研究-浅沟道光反射造成栅氧化层腐蚀问题分析与措施 .pdf. 2019-08-21. 浅沟道光反射造成栅氧化层腐蚀问题分析与措施,沈旭昭,何卫锋,本文介绍了在现代CMOS器件制造工艺中,对于两种不同工作电压的器件有着各自不同厚度的栅极氧化层(Gate Oxide),在制造工艺上就需要一 lcd用触摸屏用ito导电膜玻璃手机面板视窗材料行业300088长信科技(注册地址:安徽省芜湖市经济技术开发区汽经二路以东)实际控制人李焕义1、原材料采购依赖进口和供应商相对集中风险ito导电玻璃生产所需的主要原材料分为两大类,一类是超薄浮法玻璃,约占原材料采购成本60%左右,一类是靶材,约 File Type Create Time File Size Seeders Leechers Updated; Movie: 2017-08-11: 97.36MB: 0: 0: 9 hours ago Convert video to DVD with excellent quality. Fast converter for AVI to DVD video conversion. Download Convert X video converter to convert AVI, MKV, MP4, MPEG, MOV, VOB, WMV to DVD and burn.

PECVD – 等离子体增强化学气相沉积 - PVT

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使用Reverso Context: 二硒化铌晶体和薄膜可以通过化学气相沉积(CVD)来生长 。,在中文-英语情境中翻译"化学气相沉积" SWCNTs的制备方法很多,包括电弧放电法、激光蒸发法、化学气相沉积法 ( ChemicalVapor Deposition,CVD) 等。 Subsequently,  等离子增强化学气相沉积系统(PECVD). 仪器分类:CVD设备; 所属单位:校内> 萨本栋微米纳米科学技术研究院; 放置房间号:洁净室Room1; 规格型号:SI 

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气相沉积法_百度百科

如果该装置两电极间施加低偏压,有利成核与生长,那么就不能产生足够的等离子 辉光放电,体现不了直流等离子体CVD具有较高生长速率的优点。因此,该装置 不能  When using a PECVD-process, as with CVD (Chemical Vapor Deposition), only gases are used. 本发明涉及一种化学气相沉积(CVD)设备。本发明特别涉及一种使用反应气体的游离基(radical)同时通过在喷头内产生等离子体或者利用喷头将外部等离子体喷射到  如果该装置两电极间施加低偏压,有利成核与生长,那么就不能产生足够的等离子辉光放电,体现不了直流等离子体CVD具有较高生长速率的优点。因此,该装置不能 

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Thermal Management 是在优酷播出的生活高清视频,于2019-07-18 13:18:37上线。视频内容简介:Thermal Management 点点文档为您提供的皮筋拉力表相关的文档,视频,软件,点点文档提供稳定的全网文档检索工具,衷心希望能帮到您的工作

如果该装置两电极间施加低偏压,有利成核与生长,那么就不能产生足够的等离子辉光放电,体现不了直流等离子体CVD具有较高生长速率的优点。因此,该装置不能  SWCNTs的制备方法很多,包括电弧放电法、激光蒸发法、化学气相沉积法 (ChemicalVapor Deposition,CVD) 等。 Subsequently,  CVD 气相沉积. CVI 气相渗透. 气相涂层系统. 热诱导化学气相沉积(英语:chemical vapor deposition,CVD)是用  化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition 简称CVD) 是利用气态或蒸汽态的物质在气相或气固界面上发生反应生成固态沉积物的过程。

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